[Sep 11, 2002]
物理：硼化鎂薄膜新製程
編輯：John
C. H. Chen
美國科學家成功研究出將硼化鎂(MgB2)作成又薄又平整的薄膜的方法。
硼化鎂儘管超導溫度是39K，但是卻是2001年物理學界最重要的發現之一。儘管許多人對硼化鎂的出現寄予厚望，例如超導電子元件的製作，但是在將關鍵過程硼化鎂製成薄膜的進展上一直沒有太大突破。現在Pennsylvania
State University的Xiaoxing Xi提出了一種簡單又便宜的新方法來解決這個問題。
過去做硼化鎂薄膜主要有兩種方法。第一種是把硼膜放在鎂蒸氣中加熱，這種方法的缺點是表面平整度不好，不適合作超導量子干涉元件(SQUID)。另一種是把鎂蒸氣跟硼蒸氣一起鍍上去，這種方法很平，不過性質不好。Xi他們的方法則是把鎂以七百度蒸發，在高壓氫氣中讓鎂蒸氣與B2H6結合，並附著在藍寶石或碳化矽的表面上。這個方法的關鍵是氫氣，任務是把氧化鎂隔開，以免影響超導薄膜的性質。
原始論文
Zeng, X. et al. In situ epitaxial MgB2 thin
films for superconducting electronics. Nature Materials, 1, 35
- 38, (2002).
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